光刻胶是半导体行业的关键材料，半导体光刻工艺每一层的图形转移都离不开光刻胶。其产业链上下游高度关联的产业，上下游联系紧密且技术复杂度也相当高，是半导体高壁垒核心环节。

光刻胶是光刻成像的关键媒介，也被称作光致抗蚀剂，是一种特殊的薄膜材料。当受到紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射时，其溶解度会发生变化，从而具备了耐蚀的特性。

通过光化学反应的原理，将光刻系统中经过衍射、滤波处理后的光信息转化为化学能量，精确地复制出掩模上的图形。

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光刻胶产业链梳理

光刻胶行业的上游包括原材料、光刻胶单体的生产以及相关的生产与检测设备。原材料产要有成膜树脂、光引发剂等；生产与检测设备则包括涂胶显影机、光学步进机等。

中游聚焦于光刻胶的生产制造。

光刻胶下游在集成电路、显示面板以及PCB等领域对其需求量巨大，广泛应用于消费电子、家用电器、汽车电子等多个行业。

光刻胶产业链梳理：

资料来源：行行查研究中心

光刻胶是对光敏感的混合液体，上游原材料主要由感光树脂、增感剂和溶剂三大成分构成。树脂占比约在50%，感光剂15%，溶剂约5%。

光刻胶中的树脂是一种惰性聚合物基质，像粘合剂一样将光刻胶中的各个组分紧密结合在一起。光刻胶树脂影响光刻胶化学性质，如粘附性和胶膜厚度柔顺性等。

树脂由主链、酸敏支链以及极性支键组成。在光致产酸剂的作用下，酸敏支链会从曝光区域的树脂支链中脱离，进而引发树脂性质的转变—由原本的减不溶性变为碱可溶性，这大幅提升了其抗干法蚀刻性能。

市场格方面来看，目前半导体光刻胶树脂及其单体的国产化率较低。高端KrF/ArF原材料市场主要被外资企业所掌控。全球光刻胶用树脂市场被住友化学、美国陶氏等几家海外大公司所垄断。

单体是合成树脂的关键原料，在不同类型的光刻胶中都有其特定的种类。全球光刻胶用单体市场主要由日本三井化学、三菱化学等厂商主导；国内树脂厂商主要包括圣泉集团等。

感光剂是光刻胶中的核心光敏组分，在曝光时会经历光化学反应从而实现光刻图形的精确转移。

溶剂在光刻胶中是液态，能够让光刻胶能够在旋涂前保持稳定的流动性。大部分溶剂在曝光前会挥发，这并不会对光刻胶的光化学性质造成影响。此外光刻胶中还添加了特殊的化学品添加剂，这是制造商保密开发的专有成分，主要用于精确调控光刻胶的化学性质及光响应特性。

光刻胶根据化学反应机理分为正性和负性两大类。

在涂层曝光并显影后，若曝光部分被溶解而未曝光部分得以保留，则为正性光刻胶。未曝光部分被溶解而曝光部分保留，则为负性光刻胶。

光刻胶的制作工艺复杂且种类繁多，从应用角度来看，光刻胶可广泛应用于PCB、显示面板、半导体等多个领域。

其中，PCB光刻胶的技术壁垒相对较低，半导体光刻胶则代表了当前光刻胶最前沿的技术。

半导体光刻胶中根据曝光波长的不同，还可进一步分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶。在制程的先进程度、材料的技术壁垒以及价值量上均呈现出逐级提升的趋势。

半导体光刻胶主要类别：

资料来源：行行查

光刻胶性能的三大核心指标包括分辨率、粗糙度和灵敏度，三者之间存在平衡与制约关系，需要在设计和制造过程中进行精细的权衡与调整。

光刻胶市场竞争格局和龙头梳理

光刻胶产业具有高壁垒，其具有高昂的采购成本和认证成本，因此客户在选择供应商时也格外谨慎。一旦双方建立起合作关系，往往会长期稳定地维持下去。

从供应端的角度来看，全球光刻胶市场具有高度集中性，形成了寡头垄断的竞争格局。

全球光刻胶行业的CR4集中度高达75%，少数几家企业占据了市场的绝大部分份额。

日本和美国的企业在全球光刻胶市场中占据主导地位，其中日本厂商全球市场占有率超过80%。在这当中，东京应化以30%的市场份额领跑全球市场，美国杜邦、JSR和住友化学紧随其后。DONGIN和富士胶片也占据一定市场份额。其它的白牌厂商仅占据5%的市场份额。

光刻胶市场份额：

资料来源：行行查

我国国内生产的光刻胶主要集中在中低端领域，如PCB光刻胶和TFT-LCD光刻胶等产品。对于OLED显示面板和集成电路等高端应用领域所需的光刻胶产品，仍大量依赖进口。

在PCB光刻胶领域，干膜光刻胶的市场被国外巨头如日本旭化成、日本日立化成以及中国的长兴化学等公司所垄断。

国内厂商容大感光、广信材料、北京力拓达等本土企业在国内湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨市场上占据了主导地位。原材料主要布局厂商还包括久日新材、万润股份、强力新材、百川股份等；国内光刻胶中游主要代表厂商包括南大光电、上海新阳、彤程新材料等。

当前全球显示面板和半导体产业的东移趋势，LCD和半导体光刻胶已经具备了一定的国产替代基础。目前国产光刻胶正处于由中低端向中高端过渡的关键阶段，行业国产替代空间十分广阔。#半导体##光刻胶##科技##财经#

在半导体光刻胶方面，国内厂商当前主要集中在紫外宽谱、g线、i线等中低端产品的研发和生产上。在KrF、ArF、EUV等中高端光刻胶领域，仍主要依赖进口。

整体而言，我国半导体用光刻胶领域正在加速进行研发和验证工作，随着国产替代浪潮的推进，本土企业将迎来广阔发展机遇。

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